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詳細資料ISBN：9789863581291 叢書系列：知識平方 規格：平裝 / 176頁 / 16K菊 / 14.8 X 21 CM / 普通級/ 單色印刷 / 初版 出版地：台灣 內容簡介 日本生產工程權威獎項得主力作，圖解與表格詳實，帶領工程師掌握半導體乾蝕刻技術的全貌，提升現場即戰力。 ◎作者於1989年，以「有磁場微波電漿蝕刻技術的開發與實用化」受獎大河內紀念賞。1994年，以「低溫乾蝕刻設備的開發」受獎機械振興協會賞通產大臣賞。 ◎圖解乾蝕刻技術的原理與實務，讓你一讀即懂。 ◎由製程直到設備、新技術，更進一步設置有關電漿損傷的章節，以便理解全貌並了解乾蝕刻今後的課題與展望。 針對半導體乾蝕刻技術涉及的電漿物理、化學、材料、電磁等複雜現象，循序解析，詳解各環節的連帶影響，提升現場即時應變的作戰能力，為優秀工程師養成必備的工具書！ 非等向性蝕刻是如何實現？為何SI的蝕刻使用CL2及HBR，而SIO2的蝕刻則使用氟碳系列的氣體？為何POLY-SI及AL的蝕刻使用ICP（電感耦合式電漿）之類的高密度電漿，而SIO2的蝕刻則使用中密度電漿於間距狹窄的平行板型蝕刻機？ 本書告訴你這些連現場資深乾蝕刻工程師都不見得充分理解的知識。從乾蝕刻技術的基礎講到應用，讓初學者容易理解與整理；對於已有程度、經驗的工程師而言，讀之更加能理解、掌握乾蝕刻技術的全貌。 《半導體乾蝕刻技術》精彩內容請看：WWW.PRESSSTORE.COM.TW/FREEREADING/9789863581291.PDF |
| 搜尋參考資料: 1. www.kingstone.com.tw/book/book_page.asp?kmcode=2014480852828 半導體乾蝕刻技術－金石堂網路書店歡迎您加入博客和facebook 臉書粉絲團！The largest retail books store chains in Taiwan! www.wunan.com.tw/bookdetail.asp?no=10796 五南文化事業首頁. 半導體製程設備技術 Semiconductor Technology-Process and Equipment www.sanlien.com/ad/san_tech.nsf/foundationview/CA6EB7897ABC8C... · PDF Datei 8 科學做見證．為工業 七、蝕刻設備未來趨勢與發展方向 隨著製程上的進化，在設備的設計上也 需要不斷的推陳出新 ... www2.nsysu.edu.tw/IEE/lou/elec/web/process/semi.htm 乾法蝕刻 (電漿蝕刻)乃利用低壓放電將氣體電離成電漿，所以電漿含全部或部分電離之氣體，其中有離子、電子及中子。 www.me.tnu.edu.tw/~me022/lab/shu.htm ★ 蝕刻技術 (Etching Technology) ★ 1. 前言 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。 蝕刻 ... 半導體乾蝕刻技術 |
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